安智 最新光阻材料亮相

作者: 程鏡明 | 中時電子報 – 2013年9月5日 上午5:30

工商時報【程鏡明】

安智電子材料(AZ)秉持對客戶的承諾,持續投資台灣,繼半導體高純度溶劑、製程缺陷清洗液及顯影液在台生產之後,安智電子材料於2012年底在台開幕營運TARC生產基地,並於今年正式得到各大半導體廠認證通過並開始運用於各Nodes製程上。

安智電子材料近年來致力開發高階製程材料,以滿足客戶高階製程需求,並同時針對良率提升提供全面性的解決方案;在創新研發及成本控制方面,安智公司持續投入大量資源,以期符合客戶期許,增加客戶競爭力,創造雙贏!

2013年半導體展,安智電子材料以「先進製程」及「封測材料」做為參展主題。在下一世代EUV,NTD及DSA技術,提出安智公司的最新研發成果,提供客戶有效的解決方案,加速下一世代的研發。再者,對於封測材料的研發,將針對3D IC及銅製程相關的材料,發表最新的光阻材料,以滿足封裝客戶對先進製程的要求,有效地提升良率以及降低成本。

安智電子材料生產研發高品質的厚膜光阻劑,涵蓋的產品範圍從傳統的封裝技術使用的凸塊光阻劑、細線寬銅柱光阻劑、配合MEMS封裝用的光阻劑,到先進的3D堆疊矽穿孔技術發展所需的化學增幅型光阻劑與感光型的金屬介電材料,均有完整的產品布局。

在9月4日至6日為期3天的半導體展,安智電子材料的業務、行銷、以及研發團隊將為客戶提供最及時的諮詢服務,誠摯歡迎業者至南港展覽館N1176攤位洽詢。

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